60.00

PREPARAT C® – CZYSZCZENIE URZĄDZENIA

Preparat C służy do czyszczenia i prawidłowej konserwacji urządzenia AquaPeelH2 po każdym wykonanym zabiegu.

Preparat jest gotowy do użycia, nie wymaga rozrabiania.

In stock

60.00

iRATY | leaselink

PCZK INSTAGRAM Poznas nas bliżej @PCZK.BEAUTY

Wskazania i składniki aktywne

Preparat C służy do czyszczenia i prawidłowej konserwacji urządzenia AquaPeelH2 na koniec dnia.

Poprawna konserwacja urządzenia wpływa na jego żywotność i eliminuje możliwość wystąpienia usterki związanej z zanieczyszczeniem głowicy zabiegowej.

Składniki aktywne
OMON HYDRANTION, IODOPROPYNYL BUTYLCARBAMATE

Opakowanie
1 x 500 ml

Preparat jest gotowy do użycia, nie wymaga rozrabiania.

Zastosowanie

Zabiegi z wykorzystaniem urządzeń z serii AquaPeel H2 – więcej niż oczyszczanie wodorowe.

 

×